德國BRUKER薄膜光學(xué)測量系統(tǒng)FilmTek 2000基于非接觸式光學(xué)技術(shù)，集成光譜反射、光譜橢偏及多角度聯(lián)用等多種配置，內(nèi)置先*材料模型與全局優(yōu)化算法，可快速、無損、高精度同步測定薄膜厚度、折射率、消光系數(shù)等參數(shù)。專*MADP與DPSD技術(shù)實現(xiàn)折射率分辨率高達(dá)2×10??，測量范圍覆蓋從亞原子層到超百微米厚度。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、先*封裝及硅光子學(xué)等領(lǐng)域，為薄膜表征提供精準(zhǔn)可靠的解決方案。

德國BRUKER薄膜光學(xué)測量系統(tǒng)FilmTek 2000產(chǎn)品線簡介 布魯克FilmTek薄膜光學(xué)測量系統(tǒng)基于非接觸式光學(xué)技術(shù)，內(nèi)置多種材料模型與先*的全局優(yōu)化算法，可快速、無損 且高精度的同步測定多個薄膜參數(shù)，如薄膜厚度、折射率、消光系數(shù)等。 FilmTek薄膜測量系統(tǒng)包括光譜反射式、光譜橢偏式和多角度反射/橢偏聯(lián)用式。光譜反射式可用于測量從幾納米到 超過100微米的薄層厚度和光學(xué)特性，還可測量Via、溝槽結(jié)構(gòu)的深度。光譜橢偏式能夠測量更薄的薄膜，*薄可至單 個原子層以下，此外還能提供樣品介電特性的高精度、可重復(fù)測量結(jié)果。多角度反射 / 橢偏聯(lián)用式，在薄膜厚度和折射 率的準(zhǔn)確度與重復(fù)性方面達(dá)到同類*佳，折射率分辨率可達(dá)2x10-5，可實現(xiàn)從超薄膜到厚膜的折射率與厚度測量，非 常適用于測量超薄膜、多層薄膜堆疊以及對折射率分辨率有*高要求的材料。

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